This Standard was technically approved by the Photovoltaic Global Technical Committee. This edition was approved for publication by the global Audits and Reviews Subcommittee on May 19, 2015. Available at www.semiviews.org and www.semi.org in August 2015.
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本标准的目的是制定一种快速准确的测试方法，通过称重法测试晶体硅片腐蚀速率的方法。
本标准规定了用称重法测试和计算晶体硅片腐蚀、周边刻蚀、抛光等腐蚀速率的方法。
本标准适用于晶体硅片在制作电池过程中腐蚀速率的测试。
本标准规定了腐蚀时间。
Referenced SEMI Standards
None.
