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免責事項： このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡
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本スタンダードは，Metrics Global Technical Committeeで技術的に承認されている。現版は2013年6月4日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2013年8月にwww.semiviews.orgおよび www.semi.orgで入手可能となる。初版は1995年発行。前版は2008年11月発行。
本書の目的は，以下に記載する範囲および制限と一致する表面，または物体上の静電気電荷の再現性のある測定方法に関するガイダンスを提供することである。
ここに説明する測定方法は，半導体製造環境における物体および表面上の一般的な静電気電荷，電圧，電界レベル，および静電気放電 (ESD) の特性を表すために利用できる。本書では，適用可能な装置，校正，および測定技術を説明している。付属書には，機器の具体例および校正手順に関する予備情報に加えて有益な一般的静電気調査に関する情報および助言を含んでいる。
Referenced SEMI Standards
SEMI E33 — Guide for Semiconductor Manufacturing Equipment Electromagnetic Compatibility (EMC)
