Tag：StdTpc-Mask and Mask Equipment

P00200 - SEMI P2 - ハードサーフェス・フォトマスク用クロムブランク

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P02300 - SEMI P23 - Guidelines for Programmed Defect Masks and Benchmark Procedures for Sensitivity Analysis of Mask Defect Inspection Systems

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P02300 - SEMI P23 - プログラム欠陥マスクおよびマスク欠陥検査システムの感度分析ベンチマーク手順についてのガイドライン

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P03400 - SEMI P34 - Specification for 230 mm Square Photomask Substrates

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P03400 - SEMI P34 - 230mm方形フォトマスク基板の仕様

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P03700 - SEMI P37 - Specification for Extreme Ultraviolet Lithography Substrates and Blanks

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P04100 - SEMI P41 - Specification for Mask Defect Data Handling with XML, Between Defect Inspection Tools, Repair Tools, and Review Tools

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P04100 - SEMI P41 - XMLによる，検査装置，修正装置およびレビュー装置間で取扱うマスク欠陥データ仕様

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P04200 - SEMI P42 - Specification of Reticle Data for Automatic Recipe Transfer to Wafer Exposure System

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P04200 - SEMI P42 - ウェーハ露光システムへの自動レシピ伝送のためのレチクルデータの仕様

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P04300 - SEMI P43 - Photomask Qualification Terminology

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P04600 - SEMI P46 - Specification for Critical Dimension (CD) Measurement Information Data on Photomask by XML

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P00600 - SEMI P6 - Specification for Registration Marks for Photomasks

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P00600 - SEMI P6 - フォトマスク用レジストレーションマーク

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P01000 - SEMI P10 - フォトマスクオーダーのデータ構造の仕様

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P02900 - SEMI P29 - 減衰型位相シフトマスク（ハーフトーン型位相シフトマスク）およびマスクブランクスに特有な特性の仕様

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P03700 - SEMI P37 - 極紫外線リソグラフィマスク基板の仕様

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P03900 - SEMI P39 - OASISTM – オープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OPEN ARTWORK SYSTEM INTERCHANGE STANDARD）

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