本スタンダードは，global Silicon Wafer Committeeで技術的に承認されている。現版は2006年11月21日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2007年2月にwww.semi.orgで，そして2007年3月にCD-ROMで入手可能となる。初版は1994年発行，前版は2005年11月に発行された。
本文書が規定するのは，半導体製造工程中におけるパーティクルカウンティング，金属汚染モニター，そしてフォトリソ工程中のパターン解像度測定に使用する公称径150～300 mmの未使用プレミアムシリコンウェーハの要求仕様である。プレミアムウェーハは，上記応用のためいくつかの項目においてより厳しい規格値を持ち，その他の項目ではプライムウェーハと同等かより緩やかな規格値を有する。
Referenced SEMI Standards
SEMI M1 — Specifications for Polished Mono-crystalline Silicon Wafers
SEMI M18 — Guide for Developing Specification Forms for Order Entry of Silicon Wafers
SEMI M45 — Provisional Specification for 300 mm Wafer Shipping System
SEMI M59 — Terminology for Silicon Technology
