本スタンダードは，global Silicon Wafer Committeeで技術的に承認されている。現版は2007年4月25日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2007年6月にwww.semi.orgで，そして2007年7月にCD-ROMで入手可能となる。初版は2000年6月発行，前版は2001年11月に発行された。
本仕様は，半導体パワー用デバイス／IC製造用のシリコン・オン・インシュレーター（SOI）ウェーハに関する要求条件を規定している。試験方法と受入基準を定義することによって，ユーザとサプライヤの両者は製品の特性と品質に関する要求条件を明確にすることができる。
Referenced SEMI Standards
SEMI M1 — Specifications for Polished Monocrystalline Silicon Wafers
SEMI M34 — Guide for Specifying SIMOX Wafers
SEMI M53 — Practice for Calibrating Scanning Surface Inspection Systems Using Certified Depositions of Polystyrene Latex Spheres on Unpatterned
