本スタンダードは，global Silicon Wafer Committeeで技術的に承認されている。現版は2010年12月21日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2011年2月にwww.semiviews.orgおよび www.semi.orgで入手可能となる。初版は2001年3月発行，前版は2005年3月発行された。
何年にもわたり，1107 cm-1に於ける室温での赤外線吸収ピークからシリコン中の格子間酸素濃度を計算するのに用いる多くの校正係数が世界各地域の標準化開発組織によって標準化されてきている。そのようなすべての標準は，その後シリコン中の酸素濃度と吸収ピークとの相関をより正確に相関付けしているIOC-88 校正係数1,2を使用すべく改訂がなされてきている。それにもかかわらず，多くの古い校正係数が工業界において通用したまま残っている。
このガイドは，シリコン中の格子間酸素測定として1970年以来多くの組織において制定された標準で使用されている換算係数および校正係数をまとめたものである。
Referenced SEMI Standards SEMI M59 — Terminology for Silicon Technology
SEMI MF1188 — Test Method for Interstitial Atomic Oxygen Content of Silicon by Infrared Absorption with Short Baseline
