Tag：StdTpc-Scanning Surface Inspection Systems

M05000 - SEMI M50 - Test Method for Determining Capture Rate and False Count Rate for Surface Scanning Inspection Systems by the Overlay Method

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M05200 - SEMI M52 - Guide for Specifying Scanning Surface Inspection Systems for Silicon Wafers for the 130 nm to 5 nm Technology Generations

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M05300 - SEMI M53 - Practice for Calibrating Scanning Surface Inspection Systems Using Certified Depositions of Monodispere Reference Spheres on Unpatterned Semiconductor Wafer Surfaces

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M05800 - SEMI M58 - DMAを基にしたパーティクル堆積システムとプロセス評価のためのテスト方法

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M05800 - SEMI M58 - Test Method for Evaluating DMA Based Particle Deposition Systems and Processes

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M05000 - SEMI M50 - オーバーレイ法による走査型表面検査システム用捕獲率および偽計数率を決定するための試験方法

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M05200 - SEMI M52 - 130 nm，90nm，65nmおよび45nm技術世代シリコンウェーハ用走査型表面検査装置仕様のためのガイド

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M05300 - SEMI M53 - パターンのない半導体ウェーハ表面上に証明済み手法で付着した単分散標準粒子を用いた走査型表面検査システム較正の作業方法

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