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免責事項： このSEMIスタンダードは，投票により作成された英語版が正式なものであり，日本語版は日本の利用者各位の便宜のために作成したものです。万が一英語と日本語とに差異がある場合には英語版記載内容が優先されます｡
本スタンダードは，global Traceability Committeeで技術的に承認されている。現版は2006年5月16日，global Audits and Reviews Subcommitteeにて発行が承認された。2006年6月にwww.semi.orgで。初版は2005年11月に発行された。
本仕様では，ハードコート極紫外線（EUV）マスクにマークする記号法について記載する。
本仕様では，SEMI P37およびSEMI P38の仕様に適合あるいは援用される，レジストコート6インチ極紫外線マスクのパターン面にマーキングする機械可読な正方形二次元データマトリクスコードの幾何学的，空間的関係および（エラーチェック・訂正コードの）内容について定義する。
本仕様は，データマトリクスフィールドの特性および位置のみに対応するものである。このデータマトリクスフィールドには，従来，6インチ光学レティクルの各種バーコード記号に含まれていた情報を含めることができる。そのような情報のフォーマットは，本仕様では詳述しない。
Referenced SEMI Standards
SEMI P37 — Specification for Extreme Ultraviolet Lithography Mask Substrates
SEMI P38 — Specification for Absorbing Film Stacks and Multilayers on Extreme Ultraviolet Lithography Mask Blanks
